真空溶解炉|高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

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溶解炉(真空・大気・加圧)

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真空・大気・加圧での溶解

 

 

 

 

VDM-0080

真空溶解炉

 

SUSチャンバー等を用いて、チャンバー内を真空、若しくは真空後不活性雰囲気にして、ルツボ内で金属等を溶解します。
溶解をした溶融物は、鋳型等に傾注をして流し込むこともできます。
装置としては、溶解中に温度測定や添加物の追チャージ等が行えるマニピュレーターがオプションで取り付けが可能です。

 

加熱方式 高周波誘導加熱 カーボンヒーター タングステンヒーター
加熱温度 2900℃ 2900℃ 2200℃
真空度 5×10⁻Pa
加熱雰囲気 真空or不活性雰囲気 不活性雰囲気 真空or不活性雰囲気
容積 100ℓ
制御方式 タッチパネル
加熱制御 温度 or パワー制御
データ出力 データレコーダ・PC

加圧溶解炉

SUSチャンバー等を用いて、チャンバー内を不活性ガスにて加圧した状態で、ルツボ内の金属等を溶解します。
加圧する事により、溶融物の昇華を抑えることができます。
溶解をした溶融物は、鋳型等に傾注をして流し込むこともできます。
装置としては、溶解中に温度測定や添加物の追チャージ等が行えるマニピュレーターがオプションで取り付けが可能です。

 

加熱方式 高周波誘導加熱 カーボンヒーター タングステンヒーター
加熱温度 2900℃ 2300℃ 2200℃
圧力 第一種圧力・第二種圧力
加熱雰囲気 不活性雰囲気
容積 100ℓ
制御方式 タッチパネル
加熱制御 温度 or パワー制御
データ出力 データレコーダ・PC

大気溶解炉

大気中でルツボ内で材料を溶解します。
溶解をした溶融物は、鋳型等に傾注をして流し込むこともできます。

 

加熱方式 高周波誘導加熱 二珪化モリブデンヒーター Ptヒーター
加熱温度 2000℃ 1800℃ 1500℃
容積 300ℓ(別途お問い合わせください)
制御方式 タッチパネル
加熱制御 温度 or パワー制御
データ出力 データレコーダ・PC

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