製品概要
本装置は、各種基板材料を高周波誘導加熱によりアニール処理する装置です。
製品仕様
| 加熱方式 | 高周波誘導加熱 |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高1700℃ |
| 雰囲気 | 不活性ガス |
| 出力 | 30kW、約7kHz |
製品開発
非鉄金属系材料関連装置
横型アニール装置
高周波誘導加熱方式
- EN
- JP
非鉄金属系材料関連装置
高周波誘導加熱方式
本装置は、各種基板材料を高周波誘導加熱によりアニール処理する装置です。
| 加熱方式 | 高周波誘導加熱 |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高1700℃ |
| 雰囲気 | 不活性ガス |
| 出力 | 30kW、約7kHz |