高周波加熱式結晶育成装置

高周波加熱式μ‐PD(引下げ)炉

試料テストに最適な研究装置

製品概要

マイクロ引下げ(Micro-Pull Down)法単結晶育成炉は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。酸化物単結晶の育成、材料物性特性解析に適しています。

製品仕様

加熱方式高周波誘導加熱
加熱温度最高2400℃
炉方式真空水冷ジャケットチャンバー
引下速度0.05~200mm/min
制御方式コンピュータ制御方式