製品概要
RSA装置はイオン注入後の活性化を目的とした熱処理装置です。シャトル方式を採用し、高速昇温、高速急冷を可能にしました。
ウエハー台を多段に重ねることにより、多数枚同時処理が可能な量産装置も御座います。
株式会社イオンテクノセンター様では本製品を使用した、活性化アニール処理を受託で承っておられます。
※新技術の採用により多数枚同時処理が可能になりました（4インチウエハーの場合）。
特徴
- 急加熱急冷却装置のため、枚葉対応でもスループットは速くなります
- 反応炉と冷却室が分かれている為、加熱部を常に高温かつ均一に保つことが可能
- 加熱部を常に高温に保っているため、ランニングコストが少なくなります
- 高真空対応になっております。（ドライポンプ＋ターボ分子ポンプ使用可能）
- 最高2,000℃まで使用
- 最大4インチで±10℃以下（1,500℃）の面内温度分布を実現
製品仕様
| 処理可能寸法 | 4～6インチウエハー |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高1900℃（ヒーター部は最高2000℃） |
| 処理時間 | 20min/枚 |
| 真空度 | 10Pa、オプション仕様は10-3Pa |