ウエハーの連続熱処理が可能、2種の加熱を自在制御

ロードロック式CVD装置

搬送から熱処理まで全自動制御

概要

本装置はウエハーの熱処理を⾼周波誘導加熱で⾏い、原料等をヒータ加熱で⾏っているハイブリッド加熱を実現しております。

処理枚数は最⼤16枚が可能で、ウエハーストッカーから未処理のウエハーを取出し搬送を⾏い、加熱処理を⾏い、ウエハーストッカーに戻す⼀連の⼯程を全⾃動で⾏います。

熱処理が終わったウエハーを交換する際に⼀旦温度を下げますが、⾼周波誘導加熱を⾏う事で急速に温度を上げることができ、1バッチの時間短縮を可能にしております。

特徴

  • ウエハーを連続で熱処理が可能
  • 最大処理枚数が16枚
  • ウエハーの搬送から熱処理まで全自動
  • ハイブリット加熱(高周波誘導加熱+ヒーター加熱)
  • 省スペース・省エネの設計

仕様

加熱方式高周波誘導加熱 + ヒーター加熱(3ゾーン)
加熱温度最高1200℃
雰囲気真空置換後不活性ガス雰囲気
ウエハーサイズ6インチ
処理枚数16枚