溶解炉

溶解炉(誘導加熱)

るつぼレスのため、
コンタミを極限まで減らして
高純度な結晶育成

製品概要

浮遊溶解とは、高周波誘導加熱電源の周波数・渦電流を利用して、導電物に高周波出力を印加して加熱溶解を行うと共に導電物を浮遊させることで、高純度な導電物の作製を行う溶解方法です。

浮遊溶解には、コールドクルシーブル溶解とレビテーション溶解があります。

特長

  • るつぼを使用しない為、るつぼ壁からの不純物の混入がない
  • るつぼ材との反応が回避できる為、多種多様の成分・組成のフラックスを使用可能
  • 電磁気力による溶湯への活発な撹拌力を利用して、金属の精錬反応を促進する
  • 高純度金属及び高融点金属の溶解が容易にできる
  • るつぼを使用しない為、消耗品コストが抑えられる

コールドクルシーブル溶解

本溶解は、ワークコイル内側に水冷銅るつぼが有り、その中に導電物を設置して加熱を行います。
高周波誘導加熱のパワーがワークコイルに投入されると、水冷るつぼにワークコイルとは逆の渦電流が発生します。
導電物にはワークコイルの渦電流が印加され加熱・溶解が進みますが、銅るつぼの渦電流とワークコイルの渦電流の電磁反発力が作用して浮遊をします。

レビテーション溶解

本溶解は、ワークコイルの下側を右巻き、上側を左巻きにし、ワークコイルに流れる電流が発生する磁束をコントロールする事で導電物を浮遊させます。
またワークコイルに流れる渦電流により導電物は加熱・溶解をします。

応用例

◆ 酸化物結晶
◆ 高純度金属・合金
◆ シリコン 

製品仕様

加熱方式高周波誘導加熱
加熱温度最高1700℃
真空度最高5×10-4Pa
加熱雰囲気真空 or 不活性ガス or 大気
充填量10kg(コールドクルシーブル溶解)
100g(レビテーション溶解)※鉄換算
制御方式タッチパネル
加熱制御温度 or パワー制御
データ出力データレコーダ・PC