高周波加熱式μ‐PD炉|CZ炉・高周波誘導加熱・高周波焼き入れ・誘導加熱装置のことなら株式会社第一機電

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高周波加熱式μ‐PD炉

高周波加熱式マイクロPD炉

高周波加熱式μ‐PD炉

試料テストに最適な研究向け装置

 

 

 

高周波加熱式結晶育成装置

概要

本装置は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。

 

仕様

加熱方式 高周波誘導加熱
加熱温度 最高2400℃
炉方式 真空水冷ジャケットチャンバー
引下速度 0.05~200mm/min
制御方式 コンピュータ制御方式

お問い合わせ

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