小型チャンバー引上げ装置(CZ法)|CZ炉・高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

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小型チャンバー引上げ装置(CZ法)

小型チャンバー引上げ式のCZ(Czochralski、チョクラルスキー)法単結晶育成装置、当社の育成プログラムであるADC制御により自動育成が可能。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

小型チャンバー引上げ装置

CZ法育成炉のベストセラー

 

 

 

 

高周波加熱式結晶育成装置

概要

CZ(Czochralski、チョクラルスキー)法による単結晶育成装置で、工業的に採用されている一般的な育成方法です。

本装置は、当社の考案した育成プログラム(ADC制御)によりシードタッチ後の自動育成を可能にしました。また、パワー制御をすることにより、個体差のない単結晶育成を実現しました。

特長

  • PCによる集中制御、画面構成(全5画面)
  • コンパクトな炉体(特許出願中)
  • ランニングコストの低減
  • 安全性に優れた設計

応用例

育成可能な単結晶の例。LT/LN、GGG、LGS、Sapphire、YAG、NdYAG、YAP、NdYAP、LuAG、YbLuAG、NdCrGSGG、BGO、PM、YVO、LBO、BSO、LSO、CaF、Si等。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

 

LT/LN、GGG、LGS、Sapphire、YAG、NdYAG、YAP、NdYAP、LuAG、YbLuAG、NdCrGSGG、BGO、PM、YVO、LBO、BSO、LSO、CaF、Si等

仕様

チャンバー

円筒型水冷式二重構造、耐真空構造

φ600~1200mm xH1000mm

加熱方式 高周波誘導加熱方式
出力 10~200kW
加熱温度 最高2200℃
ロードセル 3~80kgf 最小分解能1/100000
制御装置 ADC機能付き結晶育成装置

お問い合わせ

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