抵抗加熱式引上げ装置(CZ法)|高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

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抵抗加熱式引上げ装置(CZ法)

抵抗加熱式のCZ(Czochralski、チョクラルスキー)法単結晶育成装置、当社の育成プログラムであるADC制御により自動育成が可能。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

抵抗加熱式引上げ装置

 

 

 

 

 

抵抗加熱式結晶育成装置

概要

本装置は、抵抗加熱を利用したCZ(Czochralski)法引き上げ装置です。
るつぼのなかの融液にシード結晶を浸けて結晶を回転させながら引き上げる応用例の最も多い単結晶育成装置です。
標準装備のADC(Automatic Diameter Control)システムで結晶径を自動で制御しながら育成することができます。

応用例

育成可能な単結晶の例。LT/LN、GGG、LGS、Sapphire、YAG、NdYAG、YAP、NdYAP、LuAG、YbLuAG、NdCrGSGG、BGO、PM、YVO、LBO、BSO、LSO、CaF、Si等。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

 

 LGS、Sapphire、YAG、NdYAG、YAP、NdYAP、LuAG、YbLuAG、NdCrGSGG、BGO、PM、YVO、LBO、BSO、LSO、CaF、Si等

仕様

チャンバー

円筒型水冷式二重構造、耐真空構造、ID1000X1400mm

熱源 ヒーター(カーボン、カンタルなど) 
加熱容量 メイン70kW、ボトム60kW 
加熱温度 最高2100℃
雰囲気 不活性ガス、真空 
真空排気装置 油拡散ポンプ+ロータリーポンプ 
制御装置 ADC機能付き結晶育成装置 
データー出力 温度、結晶重量、各機能部移動速度及び位置情報等 
安全回路 

お問い合わせ

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