高周波加熱式μ‐PD(引下げ)炉|高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

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高周波加熱式μ‐PD(引下げ)炉

高周波加熱でファイバー単結晶を作製するマイクロPD炉。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

試料テストに最適な研究装置

 

   

 

 

 

 

 

  

 

高周波加熱式結晶育成装置

概要

マイクロ引下げ(Micro-Pull Down)法単結晶育成炉は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。酸化物単結晶の育成、材料物性特性解析に適しています。

 

サファイア・ファイバー単結晶の写真。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

仕様

加熱方式 高周波誘導加熱
加熱温度 最高2400℃
炉方式 真空水冷ジャケットチャンバー
引下速度 0.05~200mm/min
制御方式 コンピュータ制御方式

お問い合わせ

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