液相エピタキシャル装置(LPE炉)|高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

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液相エピタキシャル装置(LPE炉)

液相にて薄膜結晶を成長させる液相エピタキシャル装置(LPE炉)です。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

2重シャッターで均熱が取りやすい

 

 

 

 

化合物用単結晶育成装置

概要

LPE装置(Liquid Phase Epitaxial)は液相にて薄膜結晶を成長させる装置です。

3ゾーンヒーターにより最適な温度勾配を得ることが可能です。

特長

  • シャッターが2重になっており均熱が取りやすくなっております
  • フラックスを上部より排気出来ます
  • 高精度な基板昇降、回転駆動機構

仕様

加熱方式 抵抗加熱方式、3ゾーン
ヒーター カンタルスーパー、各種金属発熱体(Mo、W、Ni、Cr)
加熱温度

800~1300℃

均熱長

150mm±1℃(空炉)

昇降速度

高速5~200mm/min、低速0.5~20mm/h

回転速度

1~30rpm/min(CW、CCW)

お問い合わせ

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