高真空加熱装置|高周波誘導加熱・高周波焼き入れ・誘導加熱装置のことなら株式会社第一機電

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高真空加熱装置

高真空加熱装置

高真空加熱装置

さまざまな新材料の加熱・溶解

 

特殊加熱炉

概要

高真空雰囲気を作ることにより、さまざまな新材料の加熱、溶解等が可能です。

特長

  • 金属系ホットゾーンを採用したことにより、高真空雰囲気中で2000℃以上の加熱を可能にしました。

応用例

◆ 材料の焼成
◆ 材料の不純物除去と溶解

仕様

加熱方式 抵抗加熱方式(タングステンメッシュヒーター)
加熱炉 円筒型水冷式二重構造、耐真空構造
出力 30kW
加熱温度 常用2200℃
炉内雰囲気 真空・不活性ガス
高真空排気装置 ターボ分子ポンプ&ロータリーポンプ

お問い合わせ

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