抵抗加熱式μ‐PD炉|CZ炉・高周波誘導加熱・高周波焼き入れ・誘導加熱装置のことなら株式会社第一機電

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抵抗加熱式μ‐PD炉

抵抗加熱式μ‐PD炉

試料テストに最適な研究向け装置

 

抵抗加熱式結晶育成装置

概要

μ‐PD(Micro-Pull Down)法単結晶育成炉は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。酸化物単結晶の育成、材料物性特性解析に適しています。

 

特長

  • 低コストで材料の物性評価が可能
  • ファイバー結晶作りが容易
  • 装置高1500mmのコンパクトな炉体(特許出願中)で設置が簡単
  • PCによる集中制御、画面構成(全5画面)
  • 安全性に優れた設計

仕様

加熱方式 抵抗加熱方式、白金ヒーター、カンタル
加熱温度 最高1700℃
ヒーター容量 6kW
雰囲気 大気・真空
制御方式 コンピュータ制御方式

お問い合わせ

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