高温含浸装置|高周波誘導加熱・高周波焼き入れ・誘導加熱装置のことなら株式会社第一機電

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高温含浸装置

MRS-10020B

溶解、焼結、ホットプレスなど
研究に最適な小型炉

SiC高周波電源+パルス電源+サーボプレス

多用途装置

概要

ハイブリッド加熱により溶解、焼成、吊下げ式BM方式結晶育成が可能であり、またサーボプレスを搭載することによりホットプレス、通電加熱、張り合わせなど多彩な実験をこなせる多用途実験炉です。

 

多彩な実験が可能:焼結(厚物可能)、含浸、張り合わせ、ホットプレス、ルツボ溶解、一方向凝固(ルツボ底冷却)、吊下げ式BM方式、加熱・焼成、その他

 

特長

  • 多彩な実験を1台で行える
  • 精密な圧力・位置制御
  • 省スペース・省エネ
  • サーボプレス制御により精密なプレス位置の制御が可能

仕様

加熱方式 ハイブリッド型(高周波誘導加熱×パルス通電)
雰囲気  真空or不活性雰囲気
最高温度 2500℃(高周波のみ2000℃・プラズマ電源のみ1500℃)
サーボプレス 最大推力50KN、荷重速度0.12~53㎜/sec
高周波電源 出力20kW、周波数7kHz
パルス電源 15V、2000A、パルス幅1~999msec
制御 温度制御(放射温度計、熱電対)、電力制御

応用例

◆ 焼結(厚物可能)

◆ 含浸

◆ 張り合わせ

◆ ホットプレス

◆ ルツボ溶解

◆ 一方向凝固(ルツボ底冷却)

◆ 吊下げ式BM方式

◆ 加熱

◆ 焼成 

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