誘導加熱溶解炉｜高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

ルツボレスのため、
コンタミを極限まで減らして
高純度な結晶育成

溶解炉

概要

浮遊溶解とは、高周波誘導加熱電源の周波数・渦電流を利用して、導電物に高周波出力を印加して加熱溶解を行うと共に導電物を浮遊させることで、高純度な導電物の作製を行う溶解方法です。

浮遊溶解には、コールドクルシーブル溶解とレビテーション溶解があります。

特長

• るつぼを使用しない為、るつぼ壁からの不純物の混入がない
• るつぼ材との反応が回避できる為、多種多様の成分・組成のフラックスを使用可能
• 電磁気力による溶湯への活発な撹拌力を利用して、金属の精錬反応を促進する
• 高純度金属及び高融点金属の溶解が容易にできる
• るつぼを使用しない為、消耗品コストが抑えられる

コールドクルシーブル溶解

本溶解は、ワークコイル内側に水冷銅ルツボが有り、その中に導電物を設置して加熱を行います。
高周波誘導加熱のパワーがワークコイルに投入されると、水冷ルツボにワークコイルとは逆の渦電流が発生します。
導電物にはワークコイルの渦電流が印加され加熱・溶解が進みますが、銅ルツボの渦電流とワークコイルの渦電流の電磁反発力が作用して浮遊をします。

レビテーション溶解

本溶解は、ワークコイルの下側を右巻き、上側を左巻きにし、ワークコイルに流れる電流が発生する磁束をコントロールする事で導電物を浮遊させます。
またワークコイルに流れる渦電流により導電物は加熱・溶解をします。

応用例

◆ 酸化物結晶

◆ 高純度金属・合金

◆ シリコン 

仕様